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簡要描述：Zeta電位與粒徑分析儀是在原有的經(jīng)典型號380ZLS基礎(chǔ)上升級配套而來，采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理檢測分析顆粒的粒度分布，同機采用多普勒電泳光散射原理（Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS）檢測ZETA電位。
更新時間：2025-02-27廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家產(chǎn)品型號：訪 問 量：4271 
具有50+年歷史
專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案
助您探索納米宇宙的精微奧秘！
0.9°步進型多角度（MADLS）真正的多角度模塊
不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會失去一些細節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進行檢測，顯著提高對復(fù)雜體系的分辨力。
復(fù)用型直插靶電級，減少耗材成本
Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復(fù)使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。
專有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分
Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。
（下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）
高斯粒徑分布圖
Nicomp®多峰粒徑分布圖
自動稀釋模塊和自動進樣模塊，減少試錯成本和人工誤差
Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動稀釋模塊和自動進樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯成本和誤差，更可以實現(xiàn)檢測的自動化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。
粒徑檢測：0.3nm-10.0μm
Zeta電位：-500mV-+500mV
| 醫(yī)藥領(lǐng)域 | 蛋白、病毒、脂質(zhì)體、乳劑、膠束、納米晶、疫苗、納米載體、細胞等 |
| 化工領(lǐng)域 | 墨水、顏料、高分子材料、化工染料、潤滑劑、石油化工、量子等 |
| 半導(dǎo)體領(lǐng)域 | 光刻膠、CMP slurry、樹脂等 |
| 其他 | 食品、飲料、化妝品等 |
| 粒徑范圍 | 20nm-2μm* |
| 濃度 | 0.1-10wt% |
| 重復(fù)性 | ±5% |
| 檢測器 | PMT（光電倍增管） |
| 激光波長精確性 | ±10% |
| 檢測角度 | 90° |
無需校準(zhǔn)
*hydrodynamic radius，流體動力學(xué)半徑
均質(zhì)機/研磨機下游的粒度控制
脂質(zhì)體和乳劑等納米制劑產(chǎn)品的生產(chǎn)監(jiān)控
CMP漿料（研磨液）的磨損監(jiān)控
納米先進材料生產(chǎn)過程中粒度監(jiān)控
Zeta電位用于測試顆粒之間排斥力 ，是判斷體系穩(wěn)定性的測量手段。
布朗運動的一個重要特點是：小粒子運動快速，大顆粒運動緩慢。由于粒子在不停地運動，散射光斑也將出現(xiàn)移動。由于粒子四處運動，散射光的相位疊加，將引起光亮區(qū)域和黑暗區(qū)域呈光強方式增加和減少或以另一種方式表達，光強也成波動形式。即：粒子的布朗運動導(dǎo)致光強的波動。
通過拉普拉斯逆轉(zhuǎn)換，將光信號轉(zhuǎn)換成指數(shù)光譜的形式進行數(shù)據(jù)處理，將雜亂無章的波動曲線轉(zhuǎn)換成有規(guī)則的自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線。
通過自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線得到衰變常數(shù)τ，通過下面公示得到擴散系數(shù)D；
1/τ= 2DK2 （K是散射光波矢量，是一個常數(shù)）
最后在通過 Stokes-Einstein 方程，得到粒徑大小R:
公式中：
K = 玻爾茲曼常數(shù)；
T = 絕對溫度；
h = 溶液的剪切粘度；
R = 粒子大小的半徑；
D = 擴散系數(shù)；
Nicomp® 3000系列設(shè)備檢測原理圖
Nicomp® 3000系列納米激光粒度儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析樣品的粒度分布?；诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering，ELS）檢測ZETA電位。其主要用于檢測納米級別及微米級別的體系，粒徑檢測范圍0.3nm-10μm，ZETA電位檢測范圍為±500mV。動態(tài)光散射方法（DLS）從傳統(tǒng)的光散射理論中分離，關(guān)注瑞利散射區(qū)的小顆粒，主要用于檢測納米級別的分散體系。動態(tài)光散射是通過光強值的波動得到自相關(guān)函數(shù)，從而獲得衰減時間常量τ，進而計算獲得粒子的擴散速度D（Diffusion Coefficient，擴散系數(shù)），代入Stokes-Einstein方程式，就可以計算得到顆粒的半徑。
Zeta電勢電位測定：Nicomp® Z3000結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS）,實現(xiàn)了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，在實驗時通過在樣品槽中外加一個外電場，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應(yīng)的動態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實驗測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到電位值。通過測試顆粒之間的排斥力，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一。
相位分析法（PALS）:用相位（Phase）變化的分析取代原先頻譜的漂移，不僅使Zeta電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對有機相體系同樣能提供Zeta電位的精確分析。
不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會失去一些細節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進行檢測，顯著提高對復(fù)雜體系的分辨力。
Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。
（下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）
高斯粒徑分布圖
Nicomp®多峰粒徑分布圖
通過蛋白質(zhì)樣品的測試，Nicomp® 納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子，依然顯示超高的分辨率和準(zhǔn)確度。Nicomp® 納米激光粒度儀的這種超高分辨率可以有效幫助研究人員更準(zhǔn)確更真實的檢測出樣品粒度分布。
如下圖，蛋白質(zhì)單聚體的粒徑大小為1.7nm
蛋白質(zhì)雙聚體的理論粒徑大小為1.7nm的兩倍3.4nm。Nicomp® 3000系列測得的結(jié)果為2.9nm左右。這個數(shù)值符合實際粒徑大小。
針對更復(fù)雜的四聚體，其理論粒徑為單聚體的4倍6.8nm。Nicomp® 3000系列測得的結(jié)果為5.7nm。這個數(shù)值符合實際粒徑大小。
將上述3個數(shù)據(jù)疊加，我們可以清晰地看到在10nm以下仍然能得到粒徑相差很小的3個峰，顯示Nicomp® 3000系列儀器有超高的分辨率和靈敏度。
Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動稀釋模塊和自動進樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯成本和誤差，更可以實現(xiàn)檢測的自動化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。
Multiple sample trays available
3×7 samples-30mm tube（50mL）
4×10 samples-20mm tube（20mL）
5×12 samples-16mm tube（14mL）
6×15 samples-13mm tube（7mL）
Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復(fù)使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。
Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列可以裝配高靈敏度的光電倍增管檢測器以及雪崩二極管檢測器，相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7-10倍放大增益效果。
靈活設(shè)置用戶管理權(quán)限，增加安全性。可設(shè)置密碼復(fù)雜度，自動登出時間，密碼修改時限，滿足CSV計算機系統(tǒng)驗證。
1.用戶管理
2.允許編輯測樣方法
3.數(shù)據(jù)庫管理
4.鏈接驅(qū)動
4.允許用戶用儀器測量樣品
5.對主機中固件更新（工程師權(quán)限）
6.密碼權(quán)限設(shè)置
7.可看、輸出、更改數(shù)據(jù)自動備份位置
8.更改重新計算測試數(shù)據(jù)
9.導(dǎo)入曲線
10.曲線校準(zhǔn)（不對用戶開放）
11.增加減少報告模板
12.允許打印或?qū)С鰣蟾?br/>13.刪除測樣數(shù)據(jù)（僅軟件界面看不到，數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)依然存在，并可還原）
14. 刪除測樣數(shù)據(jù)
15. 刪除報告
16. 刪除文件
具備詳細的審計追蹤記錄，支持日志導(dǎo)出打印，記錄用戶登錄期間所有操作，可根據(jù)操作類型、時間、項目等檢索。
數(shù)據(jù)備份支持手動、自動備份到文件路徑。備份內(nèi)容包含完整數(shù)據(jù)內(nèi)容、操作方法、審計追蹤記錄日志等。
簡潔明了，支持不同權(quán)重，不同分析模型實時切換，可快速查詢不同指標(biāo)。
| Nicomp® Z3000納米粒度及Zeta電位分析儀 | ||||
| 配置 | Standard | Pro | Plus | Ultimate |
| 溫度范圍 | 0°C~90°C(±0.1°C控溫精度，無冷凝) | |||
| 激光光源 | 固體激光器 | |||
| 激光功率 | 15mW | 35mW | 35mW | 35mW |
| PH值范圍 | 1~14 | |||
| 粒度 | ||||
| 分析方法 | 動態(tài)光散射，Gaussian分布和Nicomp多峰分布 | |||
| 檢測范圍 | 0.3nm~10μm | |||
| 最小樣品量 | 10μL | |||
| 最大濃度 | 40%w/v | |||
| 測量角度 | 90° | 90° | 多角度(14.4°~180°,包含90°，步進0.9°) | |
| 分子量 | 342-2*107 Da | |||
| ZETA電位 | ||||
| 分析方法 | 電泳光散射（ELS）,多普勒頻譜分析法/相位分析法 | |||
| 檢測范圍 | 0.3nm~10μm | |||
| 最小樣品量 | ±500mV | |||
| 最大濃度 | 40%w/v | |||
| 測量角度 | -14.9° | |||
| 分子量 | 342-2*107 Da | |||
| 附件 | ||||
| 檢測器 | PMT(光電倍增管) | PMT（光電倍增管）&APD（雪崩二極管） | ||
| 樣品池 | ■ | ■ | ■ | ■ |
| 科研版軟件 | ■ | ■ | ■ | ■ |
| 雙列直插式靶電極 | ■ | ■ | ■ | ■ |
| 21 CFR Part11軟件 | □ | □ | □ | □ |
| 多角度檢測模塊 | / | / | ■ | ■ |
| 自動進樣模塊 | / | / | / | ■ |
| 自動稀釋模塊 | / | / | / | ■ |
| 尺寸 | 56cm*4lcm*24cm | |||
| 重量 | 約26kg（與配置相關(guān)） | |||
| 注：以實際樣品為準(zhǔn) | ■標(biāo)配，隨箱自帶 | □選配，單獨購買 | ||
地址：中國上海閔行區(qū)漕河涇浦江高科技園
郵箱：marketing@alpharmaca.com
傳真：
